ELM VƏ TƏHSİL


Fevralın 20-də növbəti TOEFL iBT imtahanı təşkil olunacaq

Bakı, 18 fevral, AZƏRTAC

Təhsildə Qiymətləndirmə Xidmətinin (Educational Testing Service) TOEFL iBT imtahanı fevralın 20-də Dövlət İmtahan Mərkəzinin (DİM) Ə.Salamzadə küçəsi, 28 ünvanında yerləşən inzibati binasında təşkil olunacaq.

Bu barədə AZƏRTAC-a DİM-dən məlumat verilib. Bildirilib ki, imtahana gəlməli olan şəxslər saat 07:30-dan gec olmayaraq tələb olunan aşağıdakı sənədlərlə birlikdə imtahan binasında olmalıdırlar:

- Şəkilli şəxsiyyət vəsiqəsi və ya ümumvətəndaş pasportu;

- İmtahan iştirakçısının sağlamlığı haqqında bəyannamə.

İmtahan iştirakçısı “İmtahan iştirakçısının sağlamlığı haqqında bəyannamə”ni çap edir və imzalanmış şəkildə gətirməlidir. İmtahan saat 9:00-da başlanır.

TOEFL iBT imtahanında iştirak etmək üçün 15 və daha aşağı yaş qrupuna aid olan uşaqlar imtahan binasına valideynləri ilə birlikdə gəlməlidirlər.

Koronavirus (COVID-19) pandemiyası ilə əlaqədar həyata keçirilən sanitar-gigiyenik tədbirlər çərçivəsində imtahan binasına daxil olan iştirakçıların məsafədən ölçə bilən elektron termometrlə bədən hərarətləri yoxlanılacaq, zəruri dezinfeksiyaedici vasitələrdən istifadə olunacaq və imtahan otağında iştirakçıların bir-birindən lazımi uzaq məsafədə əyləşdirilməsi, həmçinin fasilə zamanı ara məsafənin saxlanılması təmin olunacaqdır.

İştirakçılar imtahana tibbi maska ilə gəlməli və onlardan düzgün (burun, ağız və çənə nahiyəsini tam örtməklə) istifadə etməlidirlər. Maskanı çıxarmaq qadağandır və bütün proses (buraxılış rejimi, imtahan müddəti, imtahan binasının tərk edilməsi) boyu istifadə olunmalıdır.

TOEFL iBT imtahanı haqqında daha ətraflı məlumatla DİM-in səhifəsindən tanış olmaq mümkündür.

 

© Materiallardan istifadə edərkən hiperlinklə istinad olunmalıdır
Mətndə səhv varsa, onu qeyd edib ctrl + enter düyməsini basaraq bizə göndərin

MÜƏLLİFLƏ ƏLAQƏ

* işarəsinin olunduğu yerləri doldurun.

Zəhmət olmasa, yuxarıdakı şəkildə göstərilən hərfləri daxil edin.
Hərflərin böyük və ya balaca olmasının fərqi yoxdur.